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描述：DANFOSS高壓閥180L1012-VDHTED3/4NC真空熱處理是指將工件置于真空中進行的熱處理工藝。真空熱處理在加熱中不產(chǎn)生氧化、脫碳及其他腐蝕
| 品牌 | 其他品牌 | 材質 | 銅 |
|---|---|---|---|
| 連接形式 | 螺紋 | 類型 | 直通式 |
| 適用介質 | 水,蒸汽,油品,各種高腐蝕化學介質,弱酸堿介質,氨氣,氮氣,氧氣,氫氣,液化氣,空氣,煤氣,含塵氣體 | 流動方向 | 換向 |
| 零部件及配件 | 定位器 | 用途 | 儀表 |
| 標準 | 其他 | 形態(tài) | 柱塞式 |
| 壓力環(huán)境 | 常壓 | 工作溫度 | 常溫 |
| 公稱通徑 | 20mm |
DANFOSS高壓閥180L1012-VDHTED3/4NC
真空熱處理是指將工件置于真空中進行的熱處理工藝。真空熱處理在加熱中不產(chǎn)生氧化、脫碳及其他腐蝕，而且具有凈化表面脫油除脂的作用。在真空中能將材料在冶煉過程中吸收的氫、氮和氧扽氣體脫出，提高材料的質量和性能。如：將W18Cr4V制作的超高壓針閥進行真空熱處理后，有效地增加了針閥的沖擊任性，同時提高了力學性能和使用壽命。
表面強化處理
為了提高零件的性能，除了改變材質以外，更多的是采用表面強化處理方法。如表面淬火（火焰加熱、高中頻加熱表面淬火、接觸電加熱表面淬火、電解液加熱表面淬火、激光電子束加熱表面淬火等）、滲碳、氮化、氰化、滲硼、滲金屬（TD法）、激光強化、化學氣相沉積（CVD法）、物理氣相沉積（PVD法）、等離子體化學氣相沉積（PCVD法）等離子噴涂等。
物理氣相沉積（PVD法）
在真空中應用蒸鍍、離子鍍、濺射等物理方法產(chǎn)品金屬離子，這些金屬離子在工件表面沉積，形成金屬涂層，或與反應器反應形成化合物涂層，這種處理工藝方法稱為物理氣相沉積，簡稱PVD法。此方法沉積溫度低，處理溫度400～600℃，變形小，對零件的基體組織及性能影響小。利用PVD法在W18Cr4V制造的針閥上沉積TiN層，而TiN層有的硬度（2500～3000HV）和高耐磨性，提高了閥門抗腐蝕性，在稀的鹽酸、硫酸、硝酸中不受侵蝕，能保持光亮表面。PVD處理后覆蓋層精度很好。可研磨拋光，其表面粗糙度為Ra0.8µm，拋光后可達到0.01µm。
DANFOSS高壓閥180L1012-VDHTED3/4NC
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